【國內唯一一臺7nm光刻機在哪里】目前，全球最先進的光刻技術主要由荷蘭ASML公司掌握，其推出的EUV（極紫外）光刻機是制造7nm及以下工藝芯片的關鍵設備。由于技術壁壘極高，國內在高端光刻機領域仍處于追趕階段。
不過，近年來中國在光刻技術方面取得了一定突破。根據公開信息顯示，國內唯一一臺能夠實現7nm制程的光刻機位于上海微電子裝備集團（SMEE）的研發中心，該設備為國產自主研發的中高端光刻機，主要用于科研和特定領域的芯片研發測試。
雖然這臺設備尚未達到國際頂尖水平，但它標志著中國在光刻技術上的重要進展，也為未來實現更高精度的光刻技術打下了基礎。
國內唯一一臺7nm光刻機信息匯總表
| 項目 | 內容 |
| 光刻機型號 | SMEE 7nm光刻機（非EUV） |
| 制造商 | 上海微電子裝備集團（SMEE） |
| 所在地 | 中國上海市 |
| 技術類型 | 中高端光刻機（非EUV） |
| 主要用途 | 科研、特定芯片研發與測試 |
| 是否量產 | 否（主要用于研發） |
| 當前技術水平 | 國產自主研發，尚無法大規模商用 |
| 對比國際水平 | 與ASML的EUV光刻機仍有較大差距 |
綜上所述，國內唯一一臺能夠實現7nm制程的光刻機位于上海微電子裝備集團，雖不能直接用于大規模生產，但其研發意義重大，代表了我國在半導體制造設備領域的重要突破。